三维光学形貌仪

适用范围：

三维光学形貌仪具有高速扫描、多种成像技术和高分辨率，为大范围样品表面成像提供解决方案。

6合1成像分析：白光干涉+共聚焦+光谱膜厚+亮、暗场+变焦+AFM

同一平台上多个光学器件的6合1组合允许以纳米分辨率测量多种类型的样品。

技术特点：

高速相机：200 FPS的高速相机

超高的分辨率：Z向亚纳米级分辨率与物镜倍率或扫描距离无关

模块化平台：可以定制300x300 mm的精密XY载物台，以适应不同规格的样品。（晶圆、器件、薄膜、组件等）。

分析软件：准确且易于使用，符合ISO标准，自动分析、生成报告。

转盘共聚焦，快速面扫描：

高XY分辨率的三维光学形貌仪。转盘共聚焦扫描技术比单点共聚焦扫描更快、更好，后者需要移动XY平台或反射镜来生成三维图像。我们的共聚焦显微镜利用密集的针孔，以物理方式防止散射光进入光路。这去除了噪音并提高了图像的分辨率，为透明层、大坡度、低反射率的样品生成准确的数据。

白光干涉：

白光干涉是三维光学形貌测量中Z向分辨率zui高的技术。针对平滑样品可使用相移扫描方式，针对粗糙样品可使用白光干涉模式。高速相机提供200PSI扫描帧速，在1秒内生成三维形貌。

暗场模式：

暗场成像模式用于检测裂缝和缺陷，获取高对比度和高分辨率图像。

快速膜厚测量：

薄膜厚度测量模块通过光谱反射来获得表面涂层的厚度，操作方便，提供广泛的材料库(500+)和多样品测量利于膜厚分析。

原子力显微镜(AFM)：

AFM提供原子级分辨率，具有多种测试模式，可以轻松测量粗糙度、缺陷、微纳尺寸。

变焦成像，亮场成像：

通过在不同焦平面上采集的一系列表面图像，创建完整的样品三维形貌信息。